テクセンドフォトマスク株式会社

テクセンドフォトマスク株式会社は、半導体用フォトマスク、シリコンステンシルマスク、ナノインプリント用モールドなどを製造・販売する企業である。2021年12月に設立され、2022年4月に事業を開始した。日本に加え、米国、ドイツ、フランス、韓国、中国、シンガポールに拠点を展開する。

半導体用フォトマスクは、半導体ウエハー上に回路パターンを転写する際に原版として用いられる。同社は、露光波長より大きい線幅パターンに用いるバイナリマスクを製造する。また、より微細な線幅で解像度と焦点深度の向上を図る位相シフトマスク（PSM）を扱う。次世代リソグラフィ向けには、反射型のEUVフォトマスクを提供する。

ナノインプリント用モールドでは、UVナノインプリント工程向けの石英モールドを製造する。これには半導体フォトマスクと同等の高品質な石英基板を用いる。熱ナノインプリント工程向けには、電子ビーム描画とドライエッチングで製造するシリコンモールドを提供する。高アスペクト比パターンや複雑な3D形状に対応する。